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Si-N-O薄膜结构对薄膜血液相容性的影响

王起义 , 杨苹 , 郑楠 , 黄菊 , 孙鸿 , 黄楠

功能材料

采用非平衡磁控溅射(UBMS450)法在(100)单晶硅表面制备Si-N-O薄膜.利用X射线光电子能谱(XPS)表征薄膜的成分结构;用血小板粘附试验表征薄膜结构对薄膜血液相容性的影响.研究结果表明,以无机Si为主的Si-N-O薄膜,其血液相容性较差;键合少量O的Si3N4薄膜,其血液相容性较佳.Si-N-O薄膜中N含量和O含量的变化,是导致薄膜结构变化的重要因素.

关键词: Si-N-O薄膜 , 血液相容性 , 磁控溅射