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金属涂装预处理新技术与涂层性能研究方法进展

张金涛 , 胡吉明 , 张鉴清 , 曹楚南

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.01.001

评述了近年发展起来的硅烷化和原位磷化两种金属涂装预处理新技术和有机涂层金属体系腐蚀降解行为的现代研究方法(红外照相法、红外技术)的最新进展.此两种金属表面处理方法能够显著增强有机涂层与金属基体的结合力,有望取代对环境具有危害的传统磷化和铬酸盐转化技术.红外照相技术可更直观地了解涂层下金属的腐蚀发展过程及腐蚀类型;结合SKP和SAM 两种技术能够更深入认识涂层金属发生腐蚀过程中腐蚀电位及腐蚀区域的发展变化.

关键词: 原位磷化 , 硅烷化 , 红外照相 , 涂层失效 , SKP , SAM

Au-Ni-Kovar合金系统基底元素表面偏聚的SAM和XPS研究

齐芸馨 , 唐文泰 , 夏建国 , 李望 , 展振宗

金属学报

本文采用SAM和XPS对实用Au-Ni-Kovar合金系统热处理样品(250—350℃,0.5—1.5h)进行了基底元素穿透Au层的表面偏聚研究,给出了这一复杂系统中Ni,Co表面偏聚机理的直观证据,即Ni,Co主要是通过晶界扩散穿透Au层而后以表面扩散覆盖镀Au表面的;表面偏聚元素化学态的研究则不仅表明,氧的吸附和氧化反应是Ni,Co表面偏聚的驱动力,而且发现,上述偏聚会引起样品表面吸水的现象。

关键词: Au-Ni-Kovar合金系统 , surface segregation , substrate element , SAM , XPS

金属铀真空原位断裂表面初期氧化研究

赖新春 , 陆雷 , 刘柯钊 , 杨江荣

稀有金属材料与工程

采用PHI-650型扫描俄歇电子能谱(SAM)研究金属铀在超高真空原位断裂后断面在不同氧气暴露量和温度下的氧化规律和杂质元素在表面的扩散行为.实验中采用在主真空室内的装置在超高真空中打断铀样品,然后在1×10-5 Pa的压力下充入暴露量为5 L、20 L、70 L、170 L和270 L的高纯氧气进行氧化实验并获取U,O,S和C的俄歇电子谱.实验结果表明:在5 L和20 L的氧气暴露量下表面形成UO2和金属U的混合物,在大于70 L情况下只形成UO2.在1×10-7Pa的真空中将UO2加热到100℃,150℃,200℃和300℃并进行SAM分析,结果显示:随温度的升高,尤其是在300℃时元素S向表面扩散,形成明显的富集,且表面氧和铀的原子浓度比明显下降.

关键词: , 原位 , 断裂表面 , SAM , 初期氧化

SAM AND XPS STUDIES ON SURFACE SEGREGATION OF SUBSTRATE ELEMENTS IN Au-Ni-KOVAR ALLOY SYSTEM

QI Yunxin TANG Wentai XIA Jianguo Nei Mongol Institute of Metallic Materials , Baotou , ChinaLI Wang ZHAN Zhenzong Institute of Physical and Chemical Engineering Research , Tianjin , China

金属学报(英文版)

The surface segregation of substrate elements through the Au layer in the Au-Ni-Kovar sys- tem specimens heated at 250—350℃ for 0.5—1.5 h has been studied by SAM and XPS. Visual evidence of the mechanism for Ni and Co surface segregation of the complicated sys- tem has been given,i.e.Ni and Co penetrated the gold layer mainly by grain boundary diffu- sion and then covered the Au layer by surface diffusion.The strdy results of the chemical states of surface segregation elements not only indicate that oxygen adsorption and oxidation reaction are the driving force for the surface segregation of Ni and Co,but also show that the above segregation can result in water absorption on surfaces.

关键词: Au-Ni-Kovar alloy system , null , null , null , null

430不锈钢表面PFDS硅烷膜的自组装及缓蚀性能研究

李敏娅 , 王海人 , 屈钧娥 , 曹志勇

表面技术

在430不锈铜表面制备了1H,1H,2H,2H-全氟癸基三乙氧基硅烷(PFDS)自组装膜.通过分析傅里叶变换红外光谱、接触角、极化曲线和交流阻抗谱、在三氯化铁溶液中的腐蚀形貌,研究了PFDS自组装膜的吸附及其对不锈钢电极的缓蚀作用.结果表明:组装时间为2h时,PFDS膜表现出较好的抗腐蚀性,150℃固化1h后,自组装膜具有更优异的抗腐蚀性能.

关键词: 430不锈钢 , PFDS , 自组装膜 , 缓蚀性能

植酸在316L不锈钢表面的自组装及缓蚀性能研究

王海人 , 周洋 , 屈钧娥 , 王海鹏 , 曹志勇

表面技术

以浸泡法在化学氧化处理前后的316L不锈钢表面制备了植酸自组装膜,通过动电位扫描、SEM观察及FT-IR测试,研究了组装液pH与组装时间对植酸自组装膜吸附行为及耐蚀性能的影响.结果表明:植酸被成功地组装到316L不锈钢表面,并使其耐腐蚀性能大大提高.相比而言,化学氧化处理有利于形成更致密、更耐腐蚀的自组装膜.不经化学氧化处理时,植酸组装的最佳pH为6.90,最佳时间为12 h;而经化学氧化处理时,植酸组装的最佳pH也为6.90,但最佳时间缩短为4h.

关键词: 植酸 , 316L不锈钢 , 自组装 , 缓蚀

高性能陶瓷材料的俄歇能谱分析

虞玲 , 金德玲

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2000.05.024

降低陶瓷材料表面电荷的积累一直是俄歇分析技术能否成功应用于该?类材料必须解决的首要问题. 通过实验认为:陶瓷材料试样减薄法可以用来降低表面电荷.采用这种方法,样品可分析区域大小仅依赖于电子束斑尺?寸. 因而,用Microlab 310--F热场发射扫描俄歇微探针分析仪能在几十纳米的微区内,获取结构信息和除氢氦外的化学成分信息,突破了陶瓷材料在低电压、低电流下约几十微米的分析范围. 在此基础上,挑选了掺Dy的-Sialon ,掺Y、La的-Si3N4与以Al2O3为基体加入SiC晶须, 并通氮气氛处理的三种高性能陶瓷作为实验对象,分析和研究它们的晶粒、界面的成份、化学态和结构.?发现-Si3N4和-Sialon陶瓷中的Si(LVV, KLL)峰位都会向低能端漂移,峰位分别为: 84eV 和1613eV. Si--N--O的结合态又使Si(LVV)峰继续漂移到80eV左右. 掺Y、La的-Si3N4的玻璃相区, Si至少以两种或者两种以上的化学态存在.掺Dy的-Sialon陶瓷的局部区域内有四种组分不同的固溶相及三种组分不同?的晶间相. 另外, 在SiC与SiC-BN-C纤维补强复合陶瓷材料的断裂面,观察到?从SiC基体拔出的纤维表面的大部分是残留的C层与C-BN交界层.

关键词: 俄歇分析 , 高性能陶瓷

铝合金表面抗腐蚀薄膜的制备及性能研究

石阳阳 , 程广贵 , 张忠强 , 丁建宁 , 郭立强 , 张伟 , 凌智勇

稀有金属材料与工程

采用分子自组装方法在铝合金表面制备了3-氨基丙基三乙氧基硅烷(KH550)膜、KH550/氧化石墨烯(GO)复合薄膜.借助扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱仪(Raman)和傅里叶红外光谱仪(FTIR)表征了样品表面形貌和微结构,通过电化学工作站测试了样品腐蚀电位和腐蚀电流密度.结果表明:KH550的氨基(-NH2)与GO的羧基(-COOH)发生缩合反应,使KH550与GO成功接枝.KH550硅烷膜和KH550/GO复合薄膜与铝合金发生了化学反应,生成了Si-O-Al键,增加了薄膜粘附力;同时2种薄膜均有效提高了铝合金抗腐蚀性.

关键词: 铝合金 , 硅烷偶联剂 , 氧化石墨烯 , 分子自组装 , 抗腐蚀性

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