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退火温度对NiZn铁氧体薄膜性能的影响

赵晓宁 , 兰中文 , 余忠 , 孙科 , 李可为

材料导报

采用射频磁控溅射法在Si(100)基片上制备了NiZn铁氧体薄膜,研究了退火温度对薄膜性能的影响.采用XRD分析仪分析了薄膜的相结构,原子力显微镜分析了薄膜的表面形貌,振动样品磁强计测量了薄膜的磁性能,结果表明,随着退火温度的升高,薄膜的结晶状态越好,晶粒尺寸越大,饱和磁感应强度越高,面内矫顽力越小.

关键词: 射频磁控溅射 , NiZn铁氧体薄膜 , 退火温度