武蕴忠
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丁青
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徐梅芳
,
王渭源
金属学报
用Auger电子能谱研究铂薄膜中氧和碳杂质的行为.结果表明,氧和碳受它们在铂膜中扩散过程限制.在1000℃上、下两个温区,氧具有不同的扩散激活能,分别等于0.98和0.44eV;550─1000℃温度范围内,氧向膜外扩散,使铂膜净化;1000─1200℃温度范围内,氧向膜内扩散,使铂膜氧化.在所研究的整个温度范围内,碳的扩散激活能等于0.52ev,其扩散行为和氧相同,且随着氧含量的增减而增减.
关键词:
Auger电子能谱
,
Pt film
,
oxygen
,
carbon
,
null
赵昆
,
黄康权
,
张丽
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.04.047
用对靶溅射技术在MgAl2O4 (100) (MAO) 和SrTiO3 (100) (STO)单晶基底上制备Pt薄膜.基底温度为700℃时,Pt薄膜外延生长为(200)取向,Pt/STO 薄膜的电阻率很低,而Pt/MAO 薄膜表现出高电阻特征.此外,Pt (50nm)/La0.67Ca0.33MnO3 (50nm)/STO的制备和研究表明,在包括庞磁电阻材料的器件设计中,Pt是一种较好的电极材料.
关键词:
Pt 薄膜
,
溅射
,
X射线衍射
,
原子力显微镜
,
庞磁电阻