殷景华
,
蔡伟
,
王培林
,
郑玉峰
,
王中
,
李美成
,
赵连城
功能材料
采用XPS、XRD、AFM测试技术,研究退火温度对PtSi/Si异质结薄膜硅化物形成、分布及硅化物薄膜表面形貌的影响.测试结果表明,低温退火,薄膜中相分布顺序为Pt→Pt2Si→PtSi→Si;高温退火,相分布顺序为Pt→Pt2Si+PtSi→PtSi→Si或Pt+PtzSi+PtSi→PtSi→Si.退火温度高,薄膜中晶粒尺寸大,表面粗糙.
关键词:
退火温度
,
PrSi/Si异质结
,
硅化物
,
薄膜
,
表面形貌
