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  • 论文(2)

Cu的腐蚀与缓蚀的光电化学研究

徐群杰 , 朱律均 , 齐航 , 曹为民 , 周国定

金属学报

用光电化学方法研究了Cu在不同浓度NaCl的硼酸--硼砂溶液中的腐蚀以及缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)对Cu的缓蚀作用. Cu在硼酸--硼砂缓冲溶液中, 表面的Cu2O膜为p型半导体. 当Cu所在的溶液中存在少量NaCl (小于0.5 g/L)时, Cu表面Cu2O膜会受轻微Cl-掺杂但不会改变半导体...

关键词: Cu , Photoelectrochemistry , Corrosion , Inhibitor , PASP

金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展

张鉴清 , 冷文华 , 程小芳 , 刘东坡

中国腐蚀与防护学报

自上世纪70年代以来,半导体特别是TiO2光电催化反应在诸多领域应用引起了广泛研究.近年来研究表明它可用于金属的阴极保护.文中对金属的光电化学方法防腐蚀的化学原理及研究现状进行了简要介绍.

关键词: 光电化学 , semiconductor , cathodic protection , corrosion.