韩文
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曹丽云
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黄剑锋
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王吉富
人工晶体学报
采用电沉积法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积温度对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响.结果表明:在U=3 V,pH=2.5,T=60 ℃,沉积时间为20 min,加入EDTA作络合剂的情况下,可制备出沿(111)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜.薄膜显微结构均匀而致密,随着反应温度从20 ℃增加到60 ℃,薄膜内的压应力逐渐减小,禁带宽度也随着变小.所制备的微晶PbS薄膜的禁带宽度约为0.39 eV.
关键词:
PbS薄膜
,
电沉积
,
沉积温度
,
光学性能
韩文
,
曹丽云
,
黄剑锋
硅酸盐通报
通过对PbS薄膜的结构特征、制备方法、应用领域的综述,提出并设计了水热法、溶胶凝胶法和水热电沉积法等几种简单的制备PbS薄膜的新方法,展望了PbS薄膜的发展前景,PbS薄膜将向制备简单化、功能完善化、应用多样化的方向发展.
关键词:
PbS薄膜
,
结构
,
制备
,
应用
韩文
,
曹丽云
,
黄剑锋
人工晶体学报
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积液pH值对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响.结果表明:在U=3 V,pH=2.4,沉积时间为20 min,加入EDTA作络合剂的情况下,可制备出沿(111)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜.薄膜均匀而致密,随pH值增加,薄膜的压应力及禁带宽度呈现先减小后增大的变化趋势.所制备的微晶PbS薄膜的禁带宽度约为0.38～0.39 eV.
关键词:
PbS薄膜
,
电沉积
,
pH值
,
光学性能
武怡
,
高斐
,
刘生忠
,
马笑轩
,
王浩石
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宋飞莺
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陈彦伟
材料导报
利用化学浴沉积法在玻璃衬底上50℃沉积3h制备硫化铅(PbS)纳米晶薄膜.将得到的PbS薄膜在300℃氮气中进行不同时间(0～120min)的退火.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见-近红外分光光度计对PbS薄膜的结构和光学特性进行研究.PbS薄膜在玻璃基底上粘附力较强,结晶度良好,呈面心立方结构且沿(111)方向择优生长.不同的退火时间导致PbS薄膜的结构、形貌、光学特性均产生明显差异.退火30 min的PbS薄膜的结晶度最好,其带隙变化范围为0.90～1.70 eV.
关键词:
PbS薄膜
,
化学浴沉积
,
薄膜结构
,
光学特性
