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郭坤敏 , 谢自立 , 马兰 , 袁存乔
新型炭材料 doi:10.3969/j.issn.1007-8827.2001.02.012
在半导体领域的金属有机物化学气相沉积(MOCVD)过程中,排出含有剧毒AsH3和PH3的氢气,必须经过治理达标才能放空。为此,在从瑞典引进的MOCVD装置VP50-RP中,配套使用了德国Drager B3P3滤毒罐。研制出一种新型四元浸渍活性炭及滤毒罐,其在同等条件下对氢气流中AsH3和PH3的脱除能力为Drager B3P3罐的2倍~3倍。
关键词: 活性炭 , AsH3 , PH3