欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(2)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

nc- Si/a- SiOx:H复合薄膜的结构及光吸收特性

郭震宁 , 郭亨群 , 王加贤 , 张文珍 , 李世忱

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.02.015

采用 PECVD技术制备的 a- SiOx:H (0 SiOx:H基质的量子点复合膜( nc- Si/a- SiOx:H)。利用 TEM技术, Raman散射谱和光吸收谱等 , 较系统地研究了该复合膜的膜结构和光吸收特性。实验结果表明:纳米硅嵌埋颗粒呈多晶结构, 颗粒大小随退火温度升高而增大。复合膜光吸收边随纳米硅颗粒尺寸的减小发生了蓝移,表现出 明显的量子限域效应。

关键词: nc-Si/a-SiOx:H复合膜 , PECVD技术 , 热退火 , 光吸收

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词