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材料科学技术(英文)
关键词: PECVD技术 , 二氧化钛 , 纳米结构 , 等离子体增强化学气相沉积 , 傅里叶变换红外光谱 , 锐钛矿型 , 合成 , 室温
郭震宁 , 郭亨群 , 王加贤 , 张文珍 , 李世忱
功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.02.015
采用 PECVD技术制备的 a- SiOx:H (0 SiOx:H基质的量子点复合膜( nc- Si/a- SiOx:H)。利用 TEM技术, Raman散射谱和光吸收谱等 , 较系统地研究了该复合膜的膜结构和光吸收特性。实验结果表明:纳米硅嵌埋颗粒呈多晶结构, 颗粒大小随退火温度升高而增大。复合膜光吸收边随纳米硅颗粒尺寸的减小发生了蓝移,表现出 明显的量子限域效应。
关键词: nc-Si/a-SiOx:H复合膜 , PECVD技术 , 热退火 , 光吸收