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等离子体气相沉积硬质膜工艺技术进展

马胜利 , 徐可为

兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2000.03.014

等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点.介绍了近年来PCVD硬质膜工艺技术及薄膜性能评价方面的研究现状、存在问题及发展趋势.

关键词: PCVD硬质膜 , 工艺 , 结合强度 , 研究进展