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胡小军 , 傅祖明 , 邬秋林 , 吴学锋 , 李克高
金属功能材料 doi:10.3969/j.issn.1005-8192.2000.03.005
本研究完成了在具有立方织构的Ni基带上用外延生长法制备NiO缓冲层的工作.用此方法制成的NiO膜具有很强的立方织构,其(111)的Φ扫描峰的最大半高宽(FWHM)值达到11°.这种NiO膜的形成为进一步溅射沉积具有双轴取向的YBa2Cu3O7膜奠定了良好的基础.
关键词: NiO膜 , 织构 , 缓冲层