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Ni-SiO2纳米微粒复合镀层的电沉积及其耐蚀性研究

卜路霞 , 石军 , 朱华玲 , 尉震

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2011.06.004

采用控电流电沉积技术以铜为基体制备了Ni-SiO2纳米微粒复合镀层.通过改变镀液中SiO2纳米微粒的质量浓度,考察了其对镀层中SiO2微粒的质量分数、电沉积速率及镀层耐蚀性能的影响,对纯镍镀层与Ni-SiO2纳米微粒复合镀层的耐蚀性进行了比较.研究了阴极电流密度对复合镀层耐蚀性能的影响,并采用扫描电子显微镜对镀层形貌进行了分析.结果表明,通过改变ρ(SiO2),可以调节Ni-SiO2复合镀层的组成、电沉积速率和耐蚀性能.当ρ(SiO2)为10~15g/L且电流密度为1A/dm2时,复合镀层具有较好的耐蚀性能.相对于纯镍镀层,Ni-SiO2纳米微粒复合镀层具有更好的耐蚀性,其表面更致密、平整.

关键词: Ni-SiO2纳米微粒复合镀层 , 电沉积 , 耐蚀性 , 制备

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