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邵红红 , 王季 , 王晓静 , 于春杭 , 顾冬青
功能材料
采用射频磁控溅射法在40Cr基体上制备了非晶态Al2O3薄膜,并研究了工艺参数(溅射功率,工作气压,溅射时间)、预处理工艺以及中间层对薄膜结合性能的影响.试验结果表明,采用射频溅射法,在功率为250W、工作气压为5.0Pa、时间为3h条件下制备的薄膜结合力最好.基体经过腐蚀预处理和加入镍磷中间层均能改善膜基结合力,后者效果更显著.
关键词: 射频磁控溅射 , Al2O3薄膜 , 非晶态 , 结合力 , Ni-P中间层
