孙景文
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李长生
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李俊茂
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姚固文
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姜春华
材料导报
以Ni-Mn-Ga为主要代表的铁磁形状记忆合金(FSMAs)不但具有传统形状记忆合金受温度控制的热弹性形状记忆效应,而且具有受磁场控制的铁磁形状记忆效应.微机电系统(MEMS)的应用要求Ni-Mn-Ga合金必须制备成薄膜的形式.对溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的制备工艺进行了回顾与总结,对薄膜的各种性能特征和影响因素进行了详细的叙述,最后介绍了溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的应用状况和应用趋势.
关键词:
磁控溅射
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Ni-Mn-Ga薄膜
,
铁磁形状记忆合金
,
MEMS
许连强
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谢忍
,
程丽
材料导报
采用室温沉积高温退火的方式在单晶MgO(001)基片上制备了具有马氏体相变的铁磁Ni-Mn-Ga薄膜.沉积态薄膜呈柱状晶结构,高温退火后柱状晶的晶界变得模糊.溅射气压为0.5 Pa和0.2 Pa的薄膜的马氏体相变起始温度分别为290 K和332K,溅射气压改变了薄膜成分,进而改变了相变温度.根据300K测得的磁化曲线,退火后溅射气压为0.5 Pa和0.2 Pa的薄膜分别显示出软磁和硬磁特性,这与M-T曲线的结果是相符的.室温下,0.5 Pa薄膜的磁畴形貌呈现出迷宫状；而0.2Pa样品则显现出马氏体的浮凸,与它的磁畴形貌直接关联.
关键词:
磁控溅射
,
铁磁材料
,
马氏体相变
,
Ni-Mn-Ga薄膜
,
磁性能
