万红
,
斯永敏
,
谢海涛
,
黄锐
金属功能材料
doi:10.3969/j.issn.1005-8192.2001.03.004
本文采用磁控溅射镀膜技术，制备NdFeB、TbFe单层及TbFe/NdFeB复合薄膜。通过设计正交试验，优化溅射工艺参数。采用振动样品磁强仪、X射线衍射仪对不同热处理温度处理的NdFeB薄膜的磁学性能、晶体结构进行了研究，并采用电容位移测量法对TbFe薄膜和TbFe/NdFeB复合薄膜的磁致伸缩系数进行测量。研究结果表明，NdFeB薄膜和TbFe薄膜为面内易磁化方向，在低于400℃温度下真空热处理，薄膜保持非晶态，显现较好的软磁性能。与TbFe薄膜复合，可以大大降低薄膜的矫顽力，其低场磁致伸缩性能优于TbFe单层薄膜，这为提高TbFe薄膜的低场磁致伸缩性能的研究提供了一条新途径。
关键词:
磁控溅射
,
NdFeB薄膜
,
TbFe薄膜
,
超磁致伸缩
张凯
,
张敏刚
,
刘文峰
,
杨利斌
材料导报
采用直流磁控溅射法,以P型单晶硅为基体材料,通过调整溅射时间制备出不同厚度的NdFeB薄膜.然后对不同厚度的薄膜运用相关仪器进行表征,结果表明,NdFeB薄膜厚度随着溅射时间的延长呈现近似线性增加,不同溅射时间段的沉积速率近似相同.矫顽力随着薄膜的厚度和Nd含量的增加而增加,薄膜中F的含量由84.01％降至81.65％,Nd含量由10.73％升至13.10％,B含量在5.25％～5.38％范围内浮动.
关键词:
磁控溅射
,
NdFeB薄膜
,
表面形貌
,
磁性能
傅宇东
,
闫牧夫
,
郭在在
,
王刚
,
刘勇
硅酸盐通报
本文对直流磁控溅射法制备NdFeB薄膜工艺进行了研究.采用单晶硅为基体材料,在不同的溅射功率、溅射气压、溅射时间等条件下制备薄膜.之后对薄膜进行了SEM、AFM、XRD分析结果表明,NdFeB薄膜沉积速率、表面形貌及相结构与溅射功率、溅射气压、溅射时间密切相关.并根据实验结果给出优化的NdFeB薄膜制备工艺.
关键词:
磁控溅射
,
NdFeB薄膜
,
工艺参数
,
表面形貌
傅明喜
,
宗华
,
李岩
,
查燕清
稀有金属材料与工程
采用直流励磁磁控溅射法制备NdFeB稀土永磁薄膜.研究分析了衬底预热与定向沉积法对薄膜结构和磁性能的影响.实验结果表明:定向沉积技术制备出的NdFeB薄膜表面形成单一方向的柱状晶,该柱状晶生长方向垂直于薄膜表面,使薄膜具有良好的磁各向异性,薄膜矫顽力大大提高,H⊥/H∥比值改善.在预热温度200℃逐渐加热到500℃并保温10 min时,薄膜磁性能最佳.
关键词:
NdFeB薄膜
,
定向沉积
,
动态加热
,
磁性能
