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N掺杂石墨烯/WO3纳米线复合光催化剂的光催化活性研究

周民杰 , 张娜 , 侯朝辉

人工晶体学报

采用两步水热法制备了N掺杂石墨烯/WO3纳米线复合光催化剂,用XRD、TEM、FT-IR和XPS等技术对样品进行了表征,考察了该催化剂在模拟太阳光下光催化降解甲基橙溶液活性.结果表明,经过两次水热反应,WO3纳米线负载在N掺杂石墨烯表面.引入N掺杂石墨烯有助于减少光生电子空穴对的复合,光催化活性显著提高.模拟太阳光照60 min,该复合光催化剂对甲基橙的脱色率达到99.4％.

关键词: N掺杂石墨烯 , 水热法 , WO3纳米线 , 光催化