黄发王俭秋韩恩厚柯伟
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00212
在硼酸缓冲溶液中, 采用动电位极化、电化学阻抗谱(EIS)和半导体电容分析方法分别研究了Cl-浓度(0.5-2 mol/L)和溶液温度(25-80 ℃)对690合金腐蚀行为的影响, 并结合AFM, XPS及电位-pH图分析了钝化膜层的腐蚀产物. 结果表明, 不同Cl-浓度和温度的溶液中, 690合金均表现出沿晶腐蚀和二次钝化的特征. Cl-浓度和溶液温度的提高均使 690合金的自腐蚀电位下降, 腐蚀电流密度增大, 同时温度的升高还使690合金的点蚀电位降低, 钝化区间变窄. 恒电位极化相同时间, 低电位的钝化区内的腐蚀产物主要为Cr, Fe 的氧化物和Ni(OH)2, 钝化膜较薄且致密性好, 体现n型与p型共存的特征. 高电位的钝化区内的腐蚀产物主要为Ni2O3, 钝化膜较厚但致密性差, 体现n型半导体特征.
关键词:
690合金
,
passive film
,
potentiodynamic polarization
,
electrochemical impedence spectroscopy (EIS)
,
Mott-Scottky relation
