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基体对硅钼薄膜结构及电学性能的影响

信绍广 , 徐可为 , 陈华 , 张茂国

稀有金属材料与工程

采用射频磁控溅射法在硅基底上制备了硅钼薄膜,并研究了不同基体对薄膜相结构、表面形貌及电学性能的影响.XRD,AFM和SEM分析结果表明,硅和石英玻璃基体上沉积的硅钼薄膜为非晶,而氧化铝基体上沉积的硅钼薄膜为多晶.四探针电阻测试结果表明,随着退火温度的升高,硅基体和氧化铝基体上的硅钼薄膜其方阻逐渐降低,而石英玻璃基体上的硅钼薄膜其方阻却异常增大.

关键词: 基体 , 磁控溅射 , MoSi2薄膜 , 方阻