钟明龙
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.03.030
采用简单热氧化蒸发沉积法在 ITO 玻璃基片上制备了大面积Mo O 3微纳米片。制备出的微纳米片具有良好晶体结构,其长度、宽度和片层厚度分别可达100,1~5μm 和约100 nm；微纳米片沿[001]方向生长,这是因为晶体各方向键合能的不同而具有不同的生长速度,其形成过程遵循气-固生长机制。光致发光谱显示室温下 Mo O 3微纳米片同时具有紫光发射峰、蓝光发射峰和绿光发光带,发射光强度随氧化沉积温度升高而增大,这是由于温度升高,微纳米片缺陷增加导致的。
关键词:
Mo O 3
,
纳米结构
,
热蒸发
,
生长机制
,
光致发光
