许俊华
,
曹峻
,
喻利花
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00724
采用多靶磁控溅射技术, 分别利用不同V靶功率和石墨靶功率制备一系列不同V含量和C含量的TiVN和TiVCN复合膜.利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪研究了TiVN和TiVCN复合膜的微结构、力学性能及室温和高温摩擦磨损性能.研究表明, 当V靶功率为60 W时, TiVN薄膜的硬度达到最大值, 为25.02 GPa. 在此基础上逐渐加入C元素, 当石墨靶功率为20 W时, TiVCN薄膜的硬度达到最大值, 为28.51 GPa. 当石墨靶功率进一步增加, 薄膜的硬度值开始逐渐降低. 室温下, 随着石墨靶功率的增加, TiVCN薄膜的摩擦系数逐渐减小. 高温下, TiVCN复合膜的摩擦系数随着温度的升高先增加后减小, 在700℃时获得最小值, 当温度继续升高摩擦系数又增加. 讨论了高温下TiVCN复合膜Magneli相的作用和自适应机制.
关键词:
TiVCN
,
magnetron sputtering
,
mechanical property
,
friction property
,
Magneli phase
