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La掺杂对磁控溅射CaB6薄膜的影响

张琳 , 刘慧慧 , 刘林佳 , 赵国庆 , 吴艳 , 闵光辉

无机材料学报 doi:10.15541/jim20160464

利用直流磁控溅射的方法制备掺La和未掺La的Ca1-xLaxB6(x=0,0.01,0.02,0.03)薄膜.利用原子力显微镜对薄膜的表面形貌及厚度进行表征.掺La的薄膜的厚度约为未掺杂的两倍;La的掺杂会使薄膜的晶粒尺寸变大.利用X射线光电子能谱对薄膜表面的化学组成进行检测.薄膜中Ca/La比接近理论值,没有检测到其它的铁磁性杂质及元素,尤其是Fe.Ca0.98La0.02B6薄膜具有最大的室温饱和磁化强度,强度值为84.54 emu/cm3.同时薄膜的饱和磁化强度值随薄膜厚度的增加而降低.在Ca1-xLaxB6薄膜中,B6空位是薄膜磁性的主要来源,其它类型的缺陷例如晶界等,同样影响着薄膜磁性的大小.

关键词: CaB6 , 薄膜 , La掺杂量 , 磁性

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