张蕾
,
严川伟
,
屈庆
,
李美栓
,
曹楚南
,
孙刚
,
童静宇
腐蚀学报（英文）
doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2002.02.004
用光电子能谱(XPS)、红外光谱(FTIR)和扫描电镜(SEM)研究有和无有机硅涂层的聚酰亚胺(Kapton)在模拟原子氧(AO)环境中表面所发生的侵蚀作用.结果表明,AO对Kapton有较严重的侵蚀,原来平整的表面形貌变为毛毯状;而所施用的有机硅涂层的表面形貌则变化甚少,表明该涂层具有较明显的防护效果.这种防护作用在于,有机硅涂层表面经AO辐照后生成了致密的氧化硅膜层,对抑制AO的进一步侵蚀起到了关键作用.
关键词:
Kapton 原子氧(AO) 降解 防护
