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In掺杂对化学共沉淀法合成的SnO_2粉体Zeta电位的影响

胡学兵 , 周健儿 , 徐小勇 , 汪永清 , 张小珍

人工晶体学报

以四氯化锡、三氯化铟和氨水为原料,采用化学共沉淀法制备了In掺杂SnO_2粉体.实验采用XRD和Zeta电位分析仪对In掺杂SnO_2粉体的物化性能进行了研究.结果表明:当In掺杂浓度为2 mol%时,掺杂SnO_2粉体具有较低的Zeta电位.相对于纯SnO_2粉体,In掺杂改变了SnO_2的晶胞参数并增大了其晶胞体积.

关键词: SnO_2粉体 , In掺杂 , Zeta电位 , 晶胞体积

水热法制备In掺杂ZnO薄膜的表面形貌及其光学性质

戴结林 , 江瑶瑶 , 尚凤娇 , 周智涛 , 王峰 , 赵敏 , 吕建国

硅酸盐通报

采用水热法在ZnO籽晶层上制备了不同In掺杂量的ZnO薄膜,用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计和荧光光谱仪等测试分析薄膜的微结构、表面形貌、透射谱和室温光致发光谱.结果表明,In离子的掺入未改变薄膜的晶相结构,但抑制了ZnO晶粒的生长,使得ZnO的结晶度明显下降.随着In含量的增加,薄膜表面rms粗糙度和平均颗粒尺寸均逐渐减小,光学带隙Eg先增大后减小.所有薄膜的PL谱中均观察到405 nm左右的紫光发光带,研究了In掺杂量对紫光发光带的强度和峰位的影响,并对其紫光发射机理进行了探讨.

关键词: In掺杂 , ZnO薄膜 , 表面形貌 , 光致发光谱

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