周晓平
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马琳
,
冯宗财
,
谢木标
人工晶体学报
采用恒电流电解法,以0.1 mol/L NH4NO3、0.01 mol/L Zn(CH3COO)2水溶液为电解液,成功将ZnO电沉积于ITO导电玻璃的表面.利用扫描电子显微镜(SEM)研究了ZnO晶核在ITO导电玻璃表面上的生长过程,对其生长取向、排列方式及微观形貌等方面发生的一系列变化的规律进行了研究和讨论.利用X射线衍射分析(XRD)研究了电沉积时间对ZnO结晶性的影响.结果表明:ZnO在ITO导电玻璃上的电沉积过程,经历了晶核生成、增长成片、片状组合、定向排列、团聚成花、团聚成块等连续过程;随着沉积时间的增长,沉积厚度增加,使得ZnO晶体的结晶性变差.
关键词:
恒电流电解法
,
氧化锌
,
电沉积
,
ITO导电玻璃
,
生长过程
焦亚萍
,
项腾飞
,
梅天庆
,
任春春
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2015.08.010
实验采用碱性除油去除ITO导电玻璃表面的油污,用磷酸溶液进行蚀刻以提高化学镀镍镀层的结合力,以硫酸镍为主盐进行了化学镀镍.研究了除油和蚀刻的工艺条件对镀镍层性能的影响,确定了化学镀镍前处理的最佳工艺参数.结果表明,用碱性化学除油液在25～35 ℃,除油6 min,用磷酸溶液在40℃左右,蚀刻3min的条件下进行前处理,所得镀层覆盖率高、选择性优,与基体的结合力良好.
关键词:
ITO导电玻璃
,
化学镀镍
,
前处理
,
除油
,
蚀刻
