唐宾
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刘道新
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胡奈赛
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何家文
无机材料学报
利用离子束增强沉积技术， 在 Ｓｉ （１１１） 和 Ｇ Ｃｒ１５ 轴承钢基体上沉积 Ｃｒ Ｎ 镀层研究氮分压、 Ｎ＋ ＋ Ｎ＋２ 离子轰击能量和 Ｎｉｏｎｓ Ｃｒ ａｔｏｍｓ 到达比对镀层组织结构的影响结果表明， Ｃｒ- Ｎ 镀层组织对氮分压敏感， 随着氮分压的增加， 镀层中 Ｃｒ Ｎ 组份增加， 金属 Ｃｒ 及 Ｃｒ２ Ｎ 组份减少； 随着氮离子轰击能量的增加， Ｃｒ- Ｎ 镀层中 Ｃｒ Ｎ （２００） 择优生长； 但当 Ｎ ｉｏｎｓ/Ｃｒ ａｔｏｍｓ 比从１４５ ×１０ － ２ 增至５.８７ ×１０ － ２ 时， 镀层中 Ｃｒ Ｎ 组份非但没有增多， 反而使镀层中的 Ｃｒ 以 Ｃｒ２ Ｏ３ 形态存在.
关键词:
离子束增强沉积
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