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Nb/Nb5Si3微叠层复合材料制备与其组织结构

黄光宏 , 申造宇 , 牟仁德 , 何利民 , 常振东

航空材料学报 doi:10.11868/j.issn.1005-5053.2014.6.006

采用大功率离子束辅助(IBAD)电子束物理气相沉积(EB-PVD)制备Nb/Nb5Si3叠层状复合材料.利用X-射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对材料的组成相和微观结构进行分析,探讨EB-PVD制备工艺对微叠层材料的结构和形貌的影响.采用双靶材、蒸气垂直入射及高温高束流制备微叠层材料,并进行真空热处理以考察微叠层材料在1200℃下保温3h后的结构演变.实验结果表明:制备出Nb/Nb5Si3微叠层复合材料,由立方Nb和四方Nb5 Si3混合相组成,具有明显的层状结构.真空热处理后,微叠层材料柱状晶结构向等轴晶转化.

关键词: EB-PVD , IBAD , Nb/Nb5Si3微叠层 , 微观结构 , 热处理

低能离子束轰击对Ti和Ti-N膜组织与性能的影响

曾鹏 , 胡社军 , 谢光荣 , 黄拿灿 , 吴起白

稀有金属材料与工程

研究了用能量为3.0keV～4.0 keV,束流为80mA～200mA的低能氮和氩离子束对Ti膜进行轰击的作用以及用低能氮离子束对真空电弧沉积Ti-N膜层辅助沉积作用.结果表明:用低能氮离子束对Ti膜进行轰击可以形成Ti2N相,在(204)晶面出现一定的择优取向,并对Ti膜层有一定的强化作用;在低能氮离子束对真空电弧辅助沉积过程中,膜层表现为较高的显微硬度;随低能离子束能量的增大,真空电弧沉积膜层中Ti2N相增多,在(002)晶面出现择优取向,膜层晶粒有粗化的趋势,但显微硬度却增加,这与Hall-Petch公式不符.

关键词: 低能离子束 , IBAD , 真空电弧沉积(VAD) , 组织结构 , 显微硬度

Si基底上TiN膜不同参数(分压,膜厚,束流强度)下的PAT缺陷分析

冯宏剑 , 赵杰

功能材料

用IBAD(ion beam assisted deposition)方法镀TiN膜不但有很好的膜基结合力,而且纳米硬度、耐腐、耐磨性能可通过高低能结合的方法来提高.本文作者用PAT(positron annihilation technique)技术分析了在同一高低能条件下不同参数对Si基底的缺陷的影响,解释并论证了改进实验的方法.

关键词: IBAD , PAT , 缺陷

离子辅助轰击能量对类金刚石薄膜性能的影响

齐军 , 雒建斌 , 王静 , 李文治 , 温诗铸

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2000.02.001

研究了利用IBAD方法沉积类金刚石薄膜时,离子的辅助轰击能量对薄膜的微观结构、表面粗糙度、弹性、硬度以及摩擦系数的影响,获得了机械和摩擦性能优异的类金刚石薄膜.讨论了薄膜微观结构和性能之间的关系,分析了不同硬度测试方法的差异.

关键词: 类金刚石薄膜 , IBAD , 纳米硬度

不锈钢表面沉积SiC作为氢渗透阻挡层的研究

王佩璇 , 王宇 , 史宝贵

金属学报

在３１６Ｌ不锈钢片表面上用离子束辅助沉积（ＩＢＡＤ）和溅射沉积加上离子注入方法制备Ｓｉ－Ｃ薄膜, 测量氚通过钢片的渗透率, 并用ＸＰＳ, ＡＥＳ, ＸＲＤ及ＴＥＭ等分析薄膜的成分和结构, 结果表明, 改性膜使不锈钢的氚渗透降低近５个数量级, 随着制备条件的汪同, 膜中的Ｃ／Ｓｉ原子比不同, 用双靶（Ｓｉ, Ｃ）加Ｃ离子轰击的ＩＢＡＤ方法可得到的较高的Ｃ／Ｓｉ比.

关键词: 碳化硅 , null , null , null , null , null

IBAD技术制备薄膜改性碳钢的耐蚀性研究

翁端 , 王日中 , 李西峰 , 张国卿

腐蚀学报（英文）

利用IBAD技术在核材料模拟基体(A3钢)上制备ZrN和ZrC薄膜,为作对比又用射频溅射法制备Teflon薄膜.对不同条件下获得的镀膜试样进行耐腐蚀性能测试.结果表明:各种膜层的耐腐蚀性能都较好;对同种材料其膜层的耐腐蚀性能随厚度的增加而增强;ZrC膜层的耐腐蚀性能远好于ZrN和Teflon膜层.

关键词: IBAD技术 , thin film , corrosion , surface modification

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