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横向尺寸的变化对SiGe HBT高频噪声的影响

高攀 , 张万荣 , 邱建军 , 杨经纬 , 金冬月 , 谢红云 , 张静 , 张正元 , 刘道广 , 王健安 , 徐学良

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.05.017

从发射极条宽、发射极条长、基极条数、发射极与基极间距四个方面分析了横向尺寸变化对SiGe HBT高频噪声的影响.结果表明增加发射极条长、基极条数和减小发射极与基极间距可以较为有效地减小晶体管噪声,而减小发射极与基极间距对噪声的改善效果比较显著.发射极与基极间距从1μm减小到0.5μm,2GHz工作频率下最小噪声系数可减小9dB,在0.5GHz工作频率下最小噪声系数可降至1.5dB,2GHz工作频率下最小噪声系数为3dB.

关键词: HBT , SiGe , 横向尺寸 , 高频噪声

改善多指功率SiGe HBTs热稳定性的版图设计

金冬月 , 张万荣 , 谢红云 , 沈珮 , 胡宁 , 甘军宁 , 李佳

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.05.017

提出非均匀指间距结构功率SiGe HBTs的版图设计用以改善热稳定性.模拟和实验结果均表明,与传统的均匀指间距结构相比,非均匀指间距结构HBT的峰值结温和温度分布非均匀性均得到显著改善.上述改善归功于非均匀指间距结构HBT中心指间距的增加,从而有效阻止热流由外侧指流向中心指处.此外,与均匀指间距结构器件相比,其热阻改善13.71%,热退化功率水平提高22.8%.因此,模拟和实验均证明采用非均匀指间距结构HBT的版图设计可有效改善功率HBTs热稳定性.

关键词: SiGe , HBT , 热稳定性

InP/InGaAsHBT湿法化学选择腐蚀技术

李献杰 , 曾庆明 , 徐晓春 , 敖金平 , 刘伟吉 , 梁春广

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.03.012

用H3PO4:H2O2系和HCl系腐蚀液实现了InP对InGaAs、InGaAs对InP的湿法化学选择腐蚀,并将其应用于InP/InGaAsHBT制作,发射极面积为10μm×20μm的单管共发射极直流增益β为70,截止频率Ft和最大振荡频率Fmax分别为11GHz和12GHz.

关键词: InP , InGaAs , 选择腐蚀 , HBT

InGaP/GaAs HBT费米统计律下的数值模拟计算

彭鹏 , 李爱珍 , 陈建新

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.04.011

用费米分布函数对 HBT结构中载流子的分布进行了计算 , 与常用的玻尔兹曼统计律得到的载流子分布进行了比较分析 . 同时在热场发射 -扩散模型的基础上 , 用两种方法得到的载流子分布分别对 InGaP/GaAs HBT进行了数值模拟计算和分析 .

关键词: InGaP/GaAs , HBT , 费米统计律 , 载流子分布

GaAsHBT直接耦合微波单片集成电路

曾庆明 , 徐晓春 , 刘伟吉 , 李献杰 , 敖金平 , 王全树 , 郭建魁 , 赵永林 , 揭俊锋

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.03.018

叙述了基于GaAsHBT的直接耦合级联形式,设计制造的几种微波单片集成电路,包括2.5Gb/s跨阻放大器、3GHz可级联放大器和10Gb/s跨阻放大器的设计、制造和测试结果.

关键词: GaAs , HBT , 微波单片集成电路

Si/SiGe异质结双极晶体管的研制

杨沛锋 , 李开成 , 何林 , 刘道广 , 张静 , 李竞春 , 谢孟贤 , 杨谟华

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2002.02.007

通过理论分析计算、计算机模拟和工艺实验,对Si/SiGe异质结双极晶体管(HBT)的结构参数进行了精细的优化设计,特别是采用了本征间隔层和新颖的Ge分布曲线,有效地削弱了基区杂质外扩散、基区复合和异质结势垒效应的不利影响.开发了兼容于硅工艺的锗硅HBT工艺,并据此试制出了Si/SiGeHBT,测量结果表明,器件的直流和交流特性均较好,电流放大系数为50,截止频率fT为5.1GHz.

关键词: 锗硅材料 , 分子束外延 , 异质结双极晶体管 , 优化设计

基于高电阻率衬底的Si/SiGe HBT

杨维明 , 史辰 , 谢万波 , 吴楠 , 陈建新

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.06.017

介绍了一种基于电阻率高达1000Ω·cm的硅衬底的锗硅异质结晶体管的研制.首先根据衬底寄生参数模型分析了衬底对器件高频性能的影响,然后设计了器件的材料与横向结构尺寸,该器件采用掩埋金属自对准技术在3μm工艺线上制备而成,测得其典型直流电流增益为120,BVCEO为9.0V,fT为10.2GHz,fmax为5.3GHz,比同结构尺寸的常规N+衬底Si/SiGe HBT的fT和fmax分别高出3.9GHz和1.5GHz.

关键词: 锗硅合金 , 异质结晶体管 , 高阻衬底

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