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光学浮区法生长掺锗氧化镓单晶及其性质研究

吴庆辉 , 唐慧丽 , 苏良碧 , 罗平 , 钱小波 , 吴锋 , 徐军

人工晶体学报

采用光学浮区法生长了尺寸φ8mm×40 mm的Ge∶β-Ga2O3单晶.XRD物相分析表明Ge∶β-Ga2O3单晶仍属于单斜晶系.为对其内部缺陷进行表征,进行了腐蚀实验,在光学显微镜下观察到缺陷密度为6×104/cm2.光学测试表明,与纯单晶相比,Ge∶β-Ga2O3单晶在红外波段存在明显吸收,只有位于蓝光区域的两个荧光峰,抑制了紫外与绿光波段的发光.电学性能测试得出,Ge∶β-Ga2O3单晶的电导率在10-3量级,说明掺杂Ge4+对β-Ga2O3单晶的电学性能的确有改善.

关键词: Ge∶β-Ga2O3单晶 , 晶体生长 , 光学浮区法 , 电导率

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