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溅射气压对Ge/Si纳米点表面形貌的影响

叶小松 , 王茺 , 关中杰 , 靳映霞 , 李亮 , 杨宇

功能材料

利用磁控溅射技术在Si（100）衬底上直接外延生长一系列不同压强下的Ge纳米点样品,并利用AFM、Raman和XRF对Ge纳米点样品形貌和结构进行了研究。结果表明Ge薄膜表面粗糙度在某一临界压强下发生突变,高能粒子热化的临界值与这种转变密切相联;分析讨论了Ge岛在不同溅射气压下的生长过程,在一定范围随着压强的增大会显示典型生长阶段的特征。

关键词: 磁控溅射 , Ge/Si纳米点 , 表面形貌 , 热化