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化学气相沉积法制备GaN纳米线和纳米棒

王英 , 薛成山 , 庄惠照 , 王邹平 , 张冬冬 , 黄英龙

功能材料

采用浸渍法在未抛光的硅衬底上涂抹一层NiCl2薄膜,通过化学气相沉积法(CVD)制备出高质量的GaN纳米线和纳米棒.X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收光谱(FTIR)、选区电子衍射(SAED)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)的分析结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN单晶纳米线.通过扫描电镜(SEM)观察发现纳米线的形貌,纳米线的直径在50~200nm之间,纳米棒的直径在200~800nm之间.

关键词: GaN纳米结构 , NiCl2 , CVD

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