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朱慧群 , 丁瑞钦 , 王忆 , 吴桐庆
人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.044
应用射频磁控溅射方法分别在抛光硅片和石英玻璃片上分层沉积了GaAs/SiO2纳米薄膜.通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)及吸收光谱的测试,发现衬底温度、退火、氢掺杂等制备工艺对分层沉积的GaAs/SiO2纳米薄膜的微观结构和光学性质有明显的影响.本文对相关机理作了探讨.
关键词: 射频磁控溅射 , GaAs/SiO2纳米薄膜 , 氢掺杂 , 吸收光谱