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新型GYSGG(GdxY3-xSc2Ga3O12)晶体的生长、结构及透过光谱研究

程毛杰 , 孙敦陆 , 罗建乔 , 张会丽 , 陈家康 , 张庆礼 , 殷绍唐

无机材料学报 doi:10.15541/jim20140002

采用提拉法成功生长出高质量的GYSGG(Gd0.63Y2.37Sc2Ga3O12)晶体,对其结构及透过光谱进行了研究.GYSGG晶体的晶格常数大于目前常用的GGG和CaMgZr∶GGG,介于YSGG与GSGG之间.可通过改变晶体中Gd与Y的比例,获得应用中所需不同晶格常数的晶体基片.另外,晶体三个结晶面的摇摆曲线有对称的形状和较小的半高宽,表明晶体有较好的结晶完整性.观察分析了晶体三个结晶面的位错腐蚀图.透过光谱分析表明晶体有宽的透光波段,将计算得到的折射率曲线拟合得到了折射率塞米尔方程系数.因此,GYSGG不仅是一种优良的激光基质晶体,也是一种宽波段窗口材料和潜在的具有较大晶格常数,并且晶格常数可调的新型磁泡应用衬底材料.

关键词: GYSGG晶体 , 晶格常数 , 摇摆曲线 , 位错 , 透过光谱

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