孙荣幸
,
张同俊
,
戴伟
,
李松
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2006.02.021
利用射频磁控溅射技术在硅和钢片上沉积了TiB2涂层.采用场发射电子扫描显微镜(FESEM),小掠射角x射线衍射(GAXRD)及X射线光电子能谱(XPS)分别研究了涂层的横截面形貌,晶体结构以及涂层中的元素和化学状态.同时,对涂层的显微硬度和残余应力进行了表征.结果表明, 利用射频磁控溅射法制备的TiB2涂层平整光滑,结构致密,沿[001]晶向择优生长,具有纳米晶结构,硬度显著提高,而且残余压应力较低.
关键词:
射频磁控溅射
,
TiB2涂层
,
GAXRD
,
残余应力
