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磁控溅射Fe-N单层膜的研究

周剑平 , 李华飚 , 乔祎 , 张永平 , 顾有松 , 常香荣 , 赵春生 , 田中卓

金属功能材料 doi:10.3969/j.issn.1005-8192.2000.03.007

本文研究了在不同温度的基片上进行磁控溅射,氮流量对Fe-N薄膜的磁性和结构的影响.实验表明,基片温度为200℃有助于提高Fe-N薄膜的软磁性能.基片为室温和100℃,氮流量在0~2sccm范围内变化时,未发现γ'-Fe4N和α″-Fe16N2,薄膜中只有N在α-Fe中的固溶体.基片温度200℃,氮流量大于1.0sccm时,薄膜中出现γ′-Fe4N,但仍未发现α″-Fe16N2,加氮后薄膜的软磁性能明显小于纯铁.当氮流量是1.0sccm,温度200℃时,矫顽力达到最小值,Hc=306.6A/m.当氮流量是0.5sccm,温度是200℃时,饱和磁化强度达到4πMs=2.3T.

关键词: 饱和磁化强度 , 矫顽力 , 磁控溅射 , Fe-N膜

磁控溅射Fe-N薄膜的结构和性能

周剑平 , 李华飚 , 乔祎 , 顾有松 , 李丹 , 常香荣 , 赵春生 , 田中卓

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2000.06.017

研究了氮流量对磁控溅射Fe-N薄膜的磁性和结构的影响.加氮薄膜的软磁性能明显优于纯铁的.当氮的流量为1.0mL·min-1时,矫顽力Hc达到最小值205A/m.当氮流量为0.8mL.min-1时,饱和磁化强度达到Ms=2.36T.在Fe-N薄膜中未发现γ′-Fe4N和α″-Fe16N2.

关键词: 磁控溅射 , Fe-N膜 , 饱和磁化强度 , 矫顽力

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