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不同过饱和度下DKDP晶体生长和缺陷的研究

王波 , 房昌水 , 孙洵 , 王圣来 , 顾庆天 , 李毅平

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2006.01047

过饱和度是影响DKDP晶体生长和质量的关键因素. 本文采用“点籽晶”快速生长技术在不同的过饱和度下从氘化程度为75%的溶液中生长DKDP晶体并选取部分样品进行同步辐射X射线形貌术和粉末X射线衍射测试. 研究了不同过饱和度下DKDP晶体的生长和缺陷. 实验证明, DKDP晶体可以在的过饱和度下实现快速生长, 但晶体的缺陷随着过饱和度的增大而增加.

关键词: DKDP晶体 , supersaturation , crystal growth , defect

DKDP晶体快速生长的研究

潘建国 , 曾金波 , 林秀钦 , 魏兆敏 , 林羽 , 林敢

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.04.013

本文研究了DKDP晶体溶液中的有害杂质、过热方式和溶液稳定性的关系.根据DKDP晶体快速生长的特点,设计了新的晶体生长装置.并利用新的生长装置进行了DKDP晶体的快速生长,生长出60mm×60mm×60mm的高光学质量的DKDP晶体.测量了快速生长出的DKDP晶体的透过率和光学均匀性.

关键词: DKDP晶体 , 稳定性 , 快速生长 , 光学均匀性

不同籽晶DKDP晶体生长和光学性能研究

孙绍涛 , 季来林 , 王正平 , 牟晓明 , 孙洵 , 许心光 , 史崇德

功能材料

籽晶是影响DKDP晶体生长和光学性能的一个重要因素.通过传统降温法,分别利用Z片和[101]晶片作为籽晶,从氘化程度为85%的溶液中生长DKDP晶体并对加工样品进行了相关测试.研究了不同籽晶对DKDP晶体的生长和光学性能的影响.实验表明,[101]晶片籽晶所得DKDP晶体能有效缩短生长周期,晶体损伤阈值提高明显,但光学均匀性和透过性能有所下降.

关键词: DKDP晶体 , 光学性能 , 晶体生长 , 生长习性 , 籽晶

DKDP晶体亚稳相生长研究

常新安 , 王希敏 , 肖卫强 , 臧和贵 , 张克从

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.1999.01.009

本文通过大量DKDP晶体亚稳相生长实验,对影响DKDP亚稳相生长体系稳定性、晶体生长速率和质量的因素进行了研究,并简要探讨了其影响机理,提出了消除或减弱不利影响的措施,为生长优质大尺寸DKDP晶体提供了依据.

关键词: 非线性光学晶体 , DKDP晶体 , 亚稳相生长 , 溶液晶体生长 , 生长机理

锥头籽晶对DKDP晶体生长和损伤阈值的影响

孙绍涛 , 季来林 , 王正平 , 牟晓明 , 孙洵 , 许心光 , 史崇德

功能材料

籽晶是影响DKDP晶体生长和光损伤阈值的一个重要因素.采用传统降温法,分别利用Z片和锥头作为籽晶,从氘化程度为85%的溶液生长了DKDP晶体,并选取部分样品进行3倍频光损伤阈值测试.实验证明,DKDP晶体可以在不同籽晶下基本实现稳定生长,锥头籽晶所得DKDP晶体对晶体损伤阈值提高有积极作用且能有效缩短生长周期.

关键词: DKDP晶体 , 损伤阈值 , 晶体生长 , 籽晶

原料对DKDP晶体生长习性及光学性能的影响

孙绍涛 , 季来林 , 王正平 , 牟晓明 , 孙洵 , 许心光 , 史崇德

人工晶体学报

通过传统降温法,利用不同原料从氘化程度为85%的溶液中生长DKDP晶体并对加工样品进行了相关测试.研究了不同原料对DKDP晶体的生长和光学性能的影响.实验表明:采用高纯原料所得DKDP晶体的光学性能提高,但其晶体生长容易出现外扩现象.

关键词: DKDP晶体 , 光学性能 , 晶体生长 , 生长习性 , 金属离子

优质DKDP晶体的点状籽晶生长及其表征研究

刁立臣 , 常新安 , 臧和贵

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2003.01.009

本文在研究DKDP溶液稳定性的基础上,采用Z切点状籽晶(5mm×5mm×3mm)生长了多块DKDP晶体,在250ml和1000ml生长瓶中分别获得了在[100]和[001]向生长速度可达到3mm/d和4.5 mm/d的点状籽晶生长优质DKDP晶体的生长条件.通过等离子体发射光谱(ICP)和紫外可见光谱分析发现DKDP晶体柱面的金属离子含量比锥面高,柱面的紫外可见吸收比锥面大.性能测试结果表明,点状籽晶全方位生长的DKDP晶体的激光损伤阈值约为5GW/cm2、半波电压约为4kV、动态消光比约为1600∶1,发现与传统方法生长晶体的性能没有明显的差别.

关键词: 溶液稳定性 , DKDP晶体 , 晶体生长 , 点状籽晶 , 晶体性能

点状籽晶法生长DKDP晶体的研究

孙玉平 , 常新安 , 臧和贵

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.01.016

本文研究了影响溶液稳定性的因素,主要包括溶液的纯度、饱和点和过饱和度等,并对DKDP的点状籽晶法生长进行了初步研究.同时比较了不同生长速度生长的晶体质量.结果表明:经超细过滤的高纯度溶液稳定性有很大提高,而此时生长速度对晶体质量的影响不大.最后,获得了X、Y向生长速度达3.8mm/d的点状籽晶,生长出尺寸为44mm×44mm×48mm的高质量DKDP晶体,并对晶体生长的表面进行了微观观察,分析了DKDP晶体生长的微观机制.

关键词: DKDP晶体 , 点状籽晶 , 溶液稳定性 , 电光性能

不同过饱和度下DKDP晶体生长和缺陷的研究

王波 , 房昌水 , 孙洵 , 王圣来 , 顾庆天 , 李毅平

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.05.004

过饱和度是影响DKDP晶体生长和质量的关键因素.本文采用"点籽晶"快速生长技术在不同的过饱和度下从氘化程度为75%的溶液中生长DKDP晶体并选取部分样品进行同步辐射X射线形貌术和粉末X射线衍射测试.研究了不同过饱和度下DKDP晶体的生长和缺陷.实验证明,DKDP晶体可以在<4℃的过饱和度下实现快速生长,但晶体的缺陷随着过饱和度的增大而增加.

关键词: DKDP晶体 , 过饱和度 , 晶体生长 , 缺陷

退火处理对DKDP晶体光学均匀性的影响研究

常新安 , 涂衡 , 臧和贵 , 艾琳

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.023

分别对不同生长速度的DKDP晶体进行了退火处理.结果表明,适当温度的退火处理能有效地提高晶体的光学均匀性,尤其是对快速生长的晶体质量提高更为显著.在实验温度范围内,退火温度越高,质量改善越明显.对退火机理进行了初步讨论.

关键词: DKDP晶体 , 热退火 , 光学均匀性

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