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Cr掺杂对Cu/Si(100)薄膜体系的微观结构及电阻率的影响

王新建 , 刘嘉聪 , 洪波 , 姜传海 , 董显平

中国有色金属学报

利用简易合金靶在Si(100)衬底磁控溅射制备Cu、Cu-1.19%Cr和Cu-2.18%Cr薄膜,研究Cr对Cu薄膜在300～500 ℃真空退火前后的结构和电阻率的影响.X射线衍射分析表明:Cu及Cu(Cr)薄膜均呈现Cu(111) 和Cu(200)衍射峰,并且Cu(Cr)薄膜一直保持较强的(11...

关键词: Cu(Cr)薄膜 , 织构 , 热稳定性 , 电阻率