严敏杰
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.06.019
为了研究掺杂钨丝(真空镀铬加热元件)表面电解沉积一定厚度(≥100μm)金属铬的工艺,详细考察了不同温度、电流密度、沉积时间等对镀层的影响,并对镀层进行了性能测试.结果表明,最佳工艺条件为:铬酐150～180g/L,硫酸1.5～1.8g/L,稀土(La~(3+))添加剂0.5～1.5g/L,温度为55℃,电流密度为8～10A/dm~2,电镀时间3h.此工艺条件下所得镀层光亮,色泽好,厚度可达100μm,且镀层耐蚀性好,结合力高.
关键词:
电沉积
,
铬
,
掺杂钨丝
,
工艺参数
,
耐蚀性
,
CASS试验
