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铈基、硅基半导体抛光液的发展概况

张立业 , 张忠义 , 赵增祺 , 慕利娟

稀土

介绍了化学机械抛光液的研究进展和抛光原理,分析了化学机械抛光过程中抛光液的重要作用,阐述了配制化学机械抛光液的两种方法,分析了影响铈基抛光液和硅基抛光液抛光性能的诸多因素.最后指出了抛光液回收再利用的重要性和可行性.

关键词: 化学机械抛光 , CeO2抛光液 , SiO2抛光液

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