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真空蒸发沉积CdZnTe纳米薄膜的结构与形貌

周昊 , 介万奇 , 查钢强 , 高俊宁

功能材料

采用真空蒸发沉积技术在ITO玻璃上制备得到CdZnTe纳米晶薄膜,并利用台阶仪、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)研究了CdZnTe薄膜厚度、成分、结构和形貌特征.实验结果表明,薄膜在(111)面表现出明显的择优生长特性.在薄膜生长初期,纳米薄膜中存在一定程度的非晶态富集Te,但随着沉积时间延长,薄膜成分向化学计量比逼近,结构也向闪锌矿CdZnTe转变.薄膜表面形貌平整,粗糙度R_a约为2~5nm.随着沉积时间的延长,薄膜形貌由晶粒堆砌状向多晶层片连接状转变.在沉积时间分别为15、30和45min时,薄膜的厚度依次分别约为100、300和500nm,而薄膜的晶粒平均尺寸依次分别为43.15、30.81和71.94nm.

关键词: CdZnTe薄膜 , 纳米 , 结构 , 形貌

溅射功率对CdZnTe薄膜成分和结构的影响

曾冬梅 , 周海 , 卢一民 , 杨英歌

功能材料

采用Cd0.9Zn0.1Te晶体作为溅射靶在玻璃衬底上利用磁控溅射法制备出CdZnTe薄膜,研究了溅射功率对CdZnTe薄膜的成分、结构特性的影响。制备的CdZnTe薄膜是具有闪锌矿结构的多晶薄膜,沿(111)择优取向。随着溅射功率的增大,薄膜沉积速率增大,薄膜结晶质量提高。采用晶体靶Cd0.9Zn0.1Te溅射CdZnTe薄膜时,无论是在何种功率下CdZnTe薄膜中的Cd原子成分均高于Te原子成分,Cd原子表现为择优溅射原子。

关键词: 磁控溅射 , 溅射功率 , CdZnTe薄膜

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