席忠红
,
李海翼
低温物理学报
采用直流磁控溅射的方法，分别在Si（111）和玻璃基片上沉积A1N薄膜．利用X射线衍射仪、X射线能谱仪、台阶仪、原子力显微镜、分光光度计和傅里叶变换红外光谱仪等分析薄膜的结构、组分、膜厚、形貌和光学性能．实验得到的样品为多晶六方相AlN，膜厚为720nm，含有少量的氧杂质．对A1N薄膜的光学性能的研究表明，样品在250-1000nm波长范围内具有较高的透过率；红外吸收谱以672cm。为中心形成一个很宽的红外吸收带；薄膜的禁带宽度约为5．94eV．
关键词:
AlN薄膜
,
磁控溅射
,
光学性能
,
禁带宽度
万维威
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何翔
,
孙奉娄
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.01.013
应用射频磁控溅射技术在普通载玻片上镀制一层均匀的Ti-O薄膜,采用红外光谱仪对其进行红外吸收光谱分析,采用紫外光-可见光分光光度计测量其吸光度,得到了在不同O含量条件下制备的Ti-O薄膜对紫外光-可见光的吸收情况,并进行了比较.实验结果表明:随着O含量的逐渐减少,Ti-O薄膜的结构从TiO_2逐渐转变为多种Ti-O结构共存,并且其吸收峰出现红移现象.
关键词:
Ti-O薄膜
,
射频磁控溅射
,
禁带宽度
,
红移
常平静
,
程海洋
,
林伟伟
,
李小汝
,
赵凤玉
催化学报
doi:10.1016/S1872-2067(14)60288-6
分别采用水热法(AgxS-H)和原位离子交换法(AgxS-IE)制备了AgxS.采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射光谱、紫外可见近红外吸收光谱、N2吸附-脱附、X射线光电子能谱和表面光电压测试对催化剂进行了表征.以光(λ≥420 nm)降解亚甲基蓝为模型反应，考察了AgxS的光催化性能.与AgxS-IE相比， AgxS-H具有较小的粒径、较大的禁带宽度、较低光生电荷复合率，因此具有较高的光催化活性.此外， AgxS-H还表现了较好的稳定性，循环使用五次仍能够保持较高的光催化活性.结果表明， AgxS光催化降解亚甲基蓝主要以羟基自由基氧化为主，光生空穴氧化为辅的光催化氧化过程. AgxS-H作为一种有效的光催化剂，在降解有机染料污水方面具有潜在的应用价值.
关键词:
AgxS
,
可见光照射
,
光催化降解反应
,
有机污染物
,
禁带宽度
