李凌
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王传彬
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王芳
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沈强
,
张联盟
人工晶体学报
利用脉冲激光沉积技术,在MgO(100)衬底上生长了BaTi2O5薄膜,探讨了沉积条件(衬底温度和氧分压)对薄膜结构的影响,并对其介电和光学性能进行了研究.结果表明:随衬底温度和氧分压的改变,BaTi2O5薄膜的物相和结晶取向逐渐变化;适宜的脉冲激光沉积工艺为衬底温度950~1000 K、氧分压12.5 Pa,在该条件下获得了b轴方向择优生长的BaTi2O5薄膜;该薄膜具有较高的居里温度(750 K),介电常数达2000,而且在可见光和红外波长范围内具有较高的透过率.
关键词:
BaTi2O5薄膜
,
b轴取向
,
脉冲激光沉积
,
衬底温度
,
介电性能
王传彬
,
涂溶
,
後藤孝
,
沈强
,
张联盟
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.03.027
采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在MgO(100)基片上制备了b轴取向的BaTi2O5薄膜,研究了基片温度(Tsub)、氧分压(Po2)等沉积工艺对薄膜结构的影响.结果表明: BaTi2O5薄膜的物相及取向性都随基片温度和氧分压的改变而变化,薄膜呈现(710)或(020)取向生长,最佳的PLD沉积条件为Tsub=700℃和Po2=12.5Pa.在该条件下,BaTi2O5薄膜表现出明显的b轴取向,薄膜表面平整光滑,结晶良好,晶粒呈棒状交叉分布,结合紧密.
关键词:
BaTi2O5薄膜
,
b轴取向
,
基片温度
,
氧分压
王传彬
,
涂溶
,
後藤孝
,
沈强
,
张联盟
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00553
采用脉冲激光沉积(PLD)技术, 在MgO(100)基片上制备了b轴取向的BaTi2O5薄膜, 研究了基片温度(Tsub)、氧分压(PO2)等沉积工艺对薄膜结构的影响. 结果表明: BaTi2O5薄膜的物相及取向性都随基片温度和氧分压的改变而变化, 薄膜呈现(710)或(020)取向生长, 最佳的PLD沉积条件为T sub=700℃和P O2=12.5Pa. 在该条件下, BaTi2O5薄膜表现出明显的b轴取向, 薄膜表面平整光滑, 结晶良好, 晶粒呈棒状交叉分布, 结合紧密.
关键词:
BaTi2O5薄膜
,
b-axis orientation
,
substrate temperature
,
oxygen partial pressure
