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B掺杂CVD金刚石厚膜的应力研究

卢文壮 , 左敦稳 , 徐锋 , 王珉

硅酸盐通报

在HFCVD系统中采用B2O3作为掺杂源制备了B掺杂CVD金刚石厚膜,利用X-射线衍射仪研究了B掺杂对CVD金刚石厚膜应力的影响.结果显示,B元素的掺杂改变了金刚石膜的成分和结构,膜中非晶态碳含量随着掺杂浓度的增加而增加.在低掺杂时CVD金刚石厚膜成核面上的应力状态为压应力,在高掺杂时应力状态为张应力,张应力值随着掺杂浓度的增加而增加.掺杂CVD金刚石厚膜生长面的应力为张应力,在高掺杂时的张应力值较高.

关键词: 应力 , B掺杂 , 金刚石厚膜 , XRD

溶剂热合成法制备B掺杂TiO2光催化剂

张文杰 , 李骏 , 杨波

材料热处理学报

采用溶剂热合成法制备B-TiO2,研究了B掺杂量对TiO2光催化剂物化性质和光催化降解甲基橙活性的影响.实验结果表明,B-TiO2样品均为四方晶系锐钛矿型结构,掺杂B后引起TiO2晶粒尺寸减小和颗粒细化,比表面积随B含量增加而逐渐增大.B离子主要进入TiO2晶格占据O的位置形成O-Ti-B结构,B-TiO2的晶胞体积比纯TiO2有所减小,孔径大小和孔容积略有增大.B-TiO2的光催化活性普遍优于TiO2,吸附性能随B掺杂量的增加而逐渐下降,3%B掺杂的TiO2具有最佳的光催化活性.

关键词: TiO2 , B掺杂 , 溶剂热 , 光催化

大面积B掺杂CVD金刚石膜的制备研究

卢文壮 , 左敦稳 , 王珉 , 黎向锋 , 徐锋 , 褚向前

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.007

研究了采用B2O3作为掺杂源以EACVD法沉积大面积掺杂CVD金刚石膜,用SEM、Raman、二次离子质谱仪、四探针电阻仪等对B掺杂金刚石膜进行了分析.结果表明直径达100mm的大面积B掺杂金刚石膜的晶粒分布均匀,非金刚石碳含量较少,生长速率达到10μm/h以上;B掺杂改变了金刚石膜的成分和结构,高浓度掺杂可以细化晶粒,在高浓度掺杂的膜中存在一定的非晶态碳;金刚石膜中B的含量在一定范围内随着掺杂源浓度的增加而正比增加;金刚石膜的电阻率随着掺杂源B2O3的浓度的增加而下降,当掺杂达到一定浓度时,金刚石膜的电阻率逐渐趋向稳定.

关键词: CVD金刚石 , B掺杂 , 性能 , 大面积

B掺杂对平面结构MOCVD-ZnO薄膜性能的影响

陈新亮 , 张德坤 , 赵颖 ,

人工晶体学报

本文研究了B2H6掺杂流量(B掺杂)对平面结构MOCVD-ZnO薄膜的微观结构和光电性能影响.XRD、SEM和AFM测试的研究结果表明,玻璃衬底上制备的ZnO薄膜具有(002)峰择优取向的平面结构,B掺杂使薄膜的球状晶粒尺寸变小,10 sccm流量时晶粒尺寸为~15 nm.ZnO:B薄膜的最小电阻率为5.7×10-3Ω·cm.生长的ZnO薄膜(厚度d=1150 nm)在400~900 nm范围的透过率为82%~97%,且随着B2H6掺杂流量增大,光学吸收边呈现蓝移(即光学带隙Eg展宽)现象.

关键词: MOCVD , ZnO薄膜 , B掺杂 , 太阳电池

B掺杂SrTiO 3电子结构的第一性原理计算

刘晨吉 , 贾云龙 , 刘红 , 吴一 , 刘磊 , 郑树凯

中国有色金属学报

利用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理平面波超软赝势法,对未掺杂、B替位Sr、B替位Ti、B替位O和B间隙掺杂SrTiO 3的晶格参数、Mulliken电荷布居、能带结构、态密度和光吸收系数进行计算。结果表明:B替位Sr和B替位Ti掺杂对SrTiO3电子结构和光学性质的影响不显著;B替位O掺杂则在SrTiO3的禁带中引入3条杂质能级,杂质能级上的电子可以吸收能量较小的光子跃迁至导带,光吸收强度从可见光长波段550 nm开始逐渐增加,光谱吸收边红移;B以间隙原子的形式掺杂时,SrTiO 3的禁带宽度大幅增大,电子跃迁能增加,光谱吸收边蓝移。

关键词: SrTiO 3 , B掺杂 , 第一性原理 , 电子结构

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