张进
,
薛屺
,
李松霞
硅酸盐通报
本文阐述了涂层与基体之间的界面结合机理及类型,介绍了基体预处理、设计界面过渡层和热处理等改善Al2O3膜与钢基体界面结合性能方面的研究成果,指出在膜层缺陷、残余应力及界面结合强度检测评价等方面研究的不足,为今后钢基/Al2O3陶瓷膜的制备及性能研究提供依据.
关键词:
Al2O3膜
,
钢基体
,
过渡层
,
界面结合性能
李夕金
,
薛文斌
,
程国安
航空材料学报
doi:10.3969/j.issn.1005-5053.2010.4.006
在Al(NO3)3溶液中利用阴极微弧放电沉积方法,制备了TiAl合金表面的Al2O3膜,膜的厚度为80μm.空气环境下,在900℃下进行高温氧化实验.利用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析了样品在高温氧化前后的形貌和物相变化.100h高温氧化后,Al2O3膜保持完整,与基体有较好的结合.高温氧化前后物相均为γ-Al2O3和少量的α-Al2O3,但是氧化后的膜层中出现了少量的Rutile-TiO2.阴极微弧沉积方法在TiAl合金表面制备的Al2O3膜能够有效地提高基体在900℃时的抗氧化性能.
关键词:
阴极微弧沉积
,
TiAl
,
高温氧化
,
Al2O3膜
侯志青
,
刘东州
,
康艳霜
表面技术
目的 对铝酸锶进行复合包覆处理,以提高荧光粉的抗水解性能.方法 采用液相水解法在铝酸锶表面包覆SiO2/Al2 O3膜,并对膜层进行耐水性、发光性能测试及形貌分析,研究包覆量对包覆效果的影响.结果 包覆量对包膜效果有着重要的影响.包覆量太低,荧光粉的耐水性能受到限制,很容易发生水解;包覆量太高,会影响荧光粉的发光性能,发光亮度降低.结论 要想得到包膜效果较好的产品,SiO2和AJ2O3占铝酸锶的质量百分比最好控制在5％左右.
关键词:
铝酸锶
,
复合包覆
,
SiO2膜
,
Al2O3膜
李夕金
,
张大蔚
,
薛文斌
材料热处理学报
在TiAl合金表面以等离子液相沉积方法制备了Al2O,膜.扫描电镜观察膜为多孔结构,沉积膜的内部孔的直径约30 μm,表面孔的直径约有10 μm;多孔结构的膜硬度约为1200 HV;沉积膜的主要相成分是γ-Al2O3及少量的α-Al2O3;显微划痕实验结果表明膜层与基体之间有较好的结合力,划痕超声信号出现在15 N压力附近;利用SEM及EDS能谱分析膜层破裂机制,膜层的开裂主要是由于基体在压力作用下的变形导致.
关键词:
Al2O3膜
,
等离子液相沉积
,
性能
,
TiAl合金
周启来
,
薛丽红
,
沈涛
,
陈春浩
,
严有为
材料热处理学报
采用无机熔融盐电镀铝、热浸镀铝工艺联合的方法在钢基材表面制备了一层平整、连续的铝镀层,研究了铝镀层在不同氧化时间下的氧化行为。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）和能谱分析（EDS）对氧化层的形貌和成分进行分析,并考察了氧化层的硬度和耐腐蚀性能。结果表明：将无机熔融盐电镀铝法和热浸镀铝法相结合可获得良好的铝镀层;铝镀层在900℃下热处理20 h后,可获得连续致密的Al2O3膜;Al2O3层有效提高了钢基材的表面硬度和耐腐蚀性能。
关键词:
Al2O3膜
,
电镀铝
,
热浸镀铝
,
高温氧化
杨志卿
,
贺连龙
,
胡魁义
,
陈吉
,
范学书
,
丛洪涛
,
叶恒强
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2002.03.001
观察了在不同温度下退火的Al/Al2O3复合材料的微观组织,结果表明,当退火温度达到570℃时包裹着Al核的非晶Al2O3壳开始破碎.研究了非晶Al2O3膜的破碎机理并在此基础上讨论了材料的微观结构与力学性能和内耗的关系,发现氧化膜的状态对材料的力学性能和内耗特征具有决定性的影响.
关键词:
Al2O3膜
,
Al/Al2O3
,
复合材料
,
微观组织
,
力学性能
,
内耗
李新禄
,
康飞宇
,
白新德
,
沈万慈
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324x.2007.06.003
采用液相浸渍法在球形颗粒LiNi1/3Co1/3Mn1/3O2的表面包覆上了一层Al2O3膜.结构分析表明,表面Al2O3膜的厚度约100nm,具有一定的无定形结构,核体材料具有纯六方相结构.实验结果证明,表面Al2O3膜能够有效提高正极材料的耐过充能力和循环稳定性.在截止电压为3.0～4.5 V,充放电倍率为1C的条件下,Al2O3表面包覆膜后正极活性物质50次循环的容量保持率提高了11.5%.
关键词:
正极材料
,
表面包覆
,
锂离子电池
,
Al2O3膜
李美栓
,
钱余海
,
辛丽
中国腐蚀与防护学报
采用一种测定氧化膜生长应力的双面氧化弯曲方法，测量了Fe-23Cr-5Al(Fe-22.6Cr-4.42Al-0.21Ti,wt%)合金在1000℃空气中氧化形成的Al2O3膜的平均生长应力，研究了氧化膜应力释放机制。Al2O3膜的平均生长应力随膜厚增大而减小，其大小从-1GPa数量级变化到-100MPa数量级。基体合金和Al2O3膜在1000℃时均发生蠕变。合金氧化一定时间后于真空保温退火，发现0。0.039μm厚的氧化膜应力下降速率比0.30μm厚的氧化膜快6.9-18.4倍.
关键词:
生长应力
,
deflection test
,
greep analysis
,
oxidation
