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射频磁控溅射制备掺Al的纳米Si-SiO2复合薄膜及其光致发光特性

郭亨群 , 杨琳琳 , 王启明

功能材料

采用射频磁控技术和退火处理制备掺Al的纳米Si-SiO2复合薄膜.通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)表征了薄膜的结构,组分和成键情况.掺Al在SiO2中造成氧空位,使薄膜光致发光强度增强,并出现新的发光峰.退火温度对掺Al薄膜的光致发光的峰位和峰强有较大影响.

关键词: Al-Si-SiO2薄膜 , 磁控溅射 , 光致发光