孙瑶
,
汪洪
航空材料学报
doi:10.11868/j.issn.1005-5053.2015.4.005
采用射频反应溅射制备SiNx薄膜,作为以Ag膜为功能层的D/M/D结构透明导电膜中的电介质膜,并研究射频功率、气压以及N2流量对SiNx薄膜光学常数的影响.结果表明,SiNx薄膜具有非晶态结构,光学常数在300～ 2500nm波长范围内符合正常色散关系.椭偏测试及Cauchy模型拟合结果表明,折射率随功率、气压以及N2流量升高而降低,SiNx光学常数最佳的工艺条件为功率300W,气压0.16Pa,N2与Ar流量比例1∶1,此时薄膜折射率为2.02,消光系数为0,最接近具有化学计量比的Si3N4薄膜的光学常数.按此工艺制备的SiNx膜在优化厚度为44nm的条件下作为20nm厚度Ag膜的电介质膜,当只有表面SiNx膜时,Ag膜透光率由29.17％提高至55.01％,当Ag膜上下均制备SiNx膜时,透光率进一步提高至66.12％.
关键词:
SiNx膜
,
Ag膜
,
折射率
,
椭偏仪
,
透光率
孙喜莲
,
范正修
,
邵建达
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2007.03.016
研究了在玻璃基底上镀制Al2O3和Cr过渡层对Ag膜反射率及附着力的影响.分光光度计测试了Ag膜的反射率,结果表明,与Cr过渡层相比,Al2O3过渡层对Ag膜反射率的降低相对较小;而且,随着Al2O3厚度的增加,Ag膜的反射率先增大后减小.XRD与AES测试表明,引入Al2O3或Cr可明显细化Ag晶粒,减弱Ag膜(111)织构;Al2O3作过渡层时,Al原子向Ag层中扩散显著;而Cr作过渡层时,只有少量Cr原子扩散进入Ag层.因此,Al2O3作过渡层能显著增强薄膜与玻璃基体之间的附着力.
关键词:
Ag膜
,
Al2O3过渡层
,
Cr过渡层
,
光学性质
,
附着力
