孙国亮
,
陈韬文
,
郑文伟
涂料工业
doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2010.05.003
以SnCl4、SbCl3、NaOH等为原料,采用共沉淀法制备ATO半导体颜料,采用XRD、SEM、EDS对颜料结构、成分、形貌进行表征,比较了ATO半导体颜料与常见的单组分颜料涂层红外发射率大小.通过颜色混合规律将ATO半导体颜料与着色颜料混合制备了绿色伪装涂料,制备的涂层具有较低的红外发射率,并且其光谱反射曲线满足美军标的光谱通道要求,具有较好的应用前景.
关键词:
共沉淀法
,
ATO半导体颜料
,
红外发射率
,
光谱反射率
,
伪装涂料
