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稀土正硼酸盐Ln1-xBO3:Eux(Ln=Y,Gd)的结构与发光特性

张巍巍 , 谢平波 , 张尉萍 , 尹民 , 荆隆 , 吕少哲 , 楼立人 , 夏上达

无机材料学报

用溶胶-凝胶法和高温固相反应分别制备了纳米量级和常规尺度的稀土正硼酸盐荧光粉LnBO:Eu(Ln=Y,Gd),测量了它们的激发光谱并首次观察到了YBO:Eu中Eu3+跃迁的 Nephelauxetic效应.根据低温下的激发光谱,发射光谱以及变温条件对发光光谱的影响,YBO中Ln3+所占据的两种格位的对称性被修正为C和D在不同方法制备的样品中观察到了不同的发光强度和猝灭浓度,缺陷的影响是产生这种不同的原因,退火样品的发光和拉曼散射谱的变化反映出掺杂的杂质Eu3+的团聚化是可能的缺陷来源.

关键词: YBO3 , sol-gel technique , luminescence , nephelauxetic effect

Bi4Ti3O12薄膜的取向生长及其电性能研究

王华

无机材料学报

采用Sol-Gel工艺,在快速退火的工艺条件下制备了Bi4Ti3O12铁电薄膜,研究了退火温度及时间、薄膜厚度对Bi4Ti3O12薄膜的取向生长行为及其铁电性能、漏电流的影响,探讨了Bi4Ti3O12薄膜取向生长的微观机制.结果表明:退火温度显著影响薄膜的c轴取向生长,其(00l)晶面的取向度F=(P-P0)/(1-P0)由550℃的0.081增加到850℃的0.827,退火时间对其(00l)晶面的取向度也有较大影响;经750℃以上温度退火处理的Bi4Ti3O12薄膜呈高度c轴取向,对铁电性能有较明显的削弱作用;薄膜的漏电流密度随退火温度升高而增大,但薄膜的c轴取向生长有利于减缓漏电流密度的增长.

关键词: 铁电薄膜 , Bi4Ti3O12 , oriented growth , sol-gel technique

新型Sol-Gel技术PZT铁电厚膜的制备及电学性能研究

夏冬林 , 刘梅冬 , 曾亦可 , 李军 , 黄焱球 , 刘少波

无机材料学报

采用新型sol-gel技术在 Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备出了厚度为 2~60μm的PZT铁 电厚膜材料;研究了PZT厚膜的结构及其介电、铁电性能.XRD谱分析显示,PZT厚膜 呈现出纯钙钛矿相结构,无焦绿石相存在.SEM电镜照片显示,PZT膜厚均匀一致,无裂 纹、高致密.厚度为50μm的PZT厚膜的介电常数为860,介电损耗为0.03,剩余极化强度 是25μC/cm.矫顽场是40kV/cm.

关键词: PZT厚膜 , lead zirconate titanate (PZT) , sol-gel technique , dielectric properties

Y2O3-SnO2常温气敏薄膜的Sol-Gel制备及性能研究

方国家 , 刘祖黎 , 吉向东 , 王汉忠 , 黄宜军 , 姚凯伦

无机材料学报

以无机盐SnCl·2HO,Y(NO·6HO为原料,无水乙醇为溶剂,采用溶胶-凝胶工艺制备了Y掺杂的SnO薄膜.采用差热-失重分析研究了Y掺杂的SnO干凝胶粉末的热分解、晶化过程.研究了Y-SnO薄膜的电学和气敏性能.从实验中得到了Y掺杂份量对SnO薄膜电学及气敏性能的影响.实验表明Y掺杂的SnO薄膜在常温下对NO具有较好的灵敏度和选择性,并具有较好的响应恢复性能;在常温下对HS气体也具有一定的灵敏度.

关键词: sol-gel工艺 , electrical and gas sensitive properties , sol-gel technique

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