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  • 论文(6)

多壁碳纳米管-酞菁铜复合物的合成表征及光电性能

吴振奕 , 杨绳岩

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00785

采用氯磺酸作为磺化试剂, 在多壁碳纳米管上接枝氯磺酰基, 之后通过乙二胺的胺解反应, 制备出胺基修饰的多壁碳纳米管MWCNT-NH2, 并进一步与氯磺酰基酞菁铜反应制备出MWCNT-Pc复合物. 产物采用红外光谱,紫外可见, 拉曼光谱, X射线光电子能谱, 循环伏安, 热重分析等进行了表征. 结果表...

关键词: 多壁碳纳米管 , copper phthalocyanine , photoelectric property

Mg,Sn共掺对ZnO薄膜光电性能的影响

马德福 , 胡跃辉 , 陈义川 , 刘细妹 , 张志明 , 徐斌

人工晶体学报

采用溶胶-凝胶旋涂法在石英衬底上制备了不同Mg,Sn掺杂比例的ZnO薄膜,研究了不同Mg,Sn比例对ZnO薄膜微观结构、表面形貌和光电性能的影响及其内在机制.结果表明:Mg,Sn掺杂后薄膜仍保持六方纤锌矿结构并沿(002)方向择优生长,掺入2%的Mg后,晶粒有所长大,保持2% Mg不变,随着Sn的掺...

关键词: ZnO薄膜 , Mg,Sn共掺 , 溶胶-凝胶法 , 光电性能

铌酸锂衬底上磁控溅射ITO薄膜及其光电性质研究

柯笑晗 , 陈云琳 , 朱亚彬 , 范天伟

人工晶体学报

在铌酸锂(LN)晶体衬底上磁控溅射铟锡氧化物(ITO)薄膜,研究了射频磁控溅射制备ITO/LN薄膜的最佳工艺.采用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)分析了透明导电ITO膜的制备工艺参数对薄膜表面形貌和晶体结构的影响,同时应用四探针电阻率测量和紫外可见光谱测量技术对所研制的ITO/LN膜的光...

关键词: ITO薄膜 , 铌酸锂 , 磁控溅射 , 光电性质

氮气压强对PLD制备ZnO薄膜形貌及光电性能的影响

吴克跃 , 吴兴举

人工晶体学报

研究了氮气压强对脉冲激光沉积(PLD)法制备ZnO薄膜形貌及光电学性能的影响.结果表明,当氮气压强较低时,ZnO薄膜是由尺寸为50 nm的薄片组成;当氮气压强增加后,ZnO薄膜变成多孔状,并且组成ZnO薄膜的颗粒尺寸逐渐减小.在氮气压强为20 Pa以上时,所制备的ZnO薄膜的光致荧光(PL)光谱是由...

关键词: ZnO , 氮气 , 脉冲激光沉积 , 光电性能

衬底温度对磁控共溅射制备的Zn(O,S)薄膜结构和光电性能的影响

彭柳军 , 杨雯 , 陈小波 , 自兴发 , 杨培志 , 宋肇宁

人工晶体学报

采用磁控共溅射沉积法,以氧化锌和硫化锌为靶材,在不同衬底温度下制备了Zn(O,S)薄膜.采用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计、霍尔测试仪和拉曼光谱测试仪对Zn(O,S)薄膜进行了结构和光电特性研究.结果表明:Zn(O,S)薄膜具有六方纤锌矿结构,属于二模混晶;在可见-近红外波...

关键词: Zn(O,S)薄膜 , 磁控共溅射 , 衬底温度 , 光电性能

过渡层(SiO2,TiO2)对F掺杂SnO2薄膜的光电性能影响研究

高赟 , 赵高扬 , 任洋

人工晶体学报

采用喷雾热解法分别在普通钠钙玻璃、含SiO2过渡层与TiO2过渡层的玻璃上制备了F掺杂SnO2薄膜,比较了不同过渡层上生长的F掺杂SnO2薄膜的表面形貌特点,分析了过渡层对F掺杂SnO2膜层的光电性能的影响.结果表明,过渡层种类对F掺杂SnO2薄膜各项性能影响很大,在SiO2薄膜过渡层上制备的F掺杂...

关键词: FTO薄膜 , 喷雾热解 , 过渡层 , 光电性能