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低温制备防潮耐真空污染二氧化硅减反膜

牛彦彦 , 姚兰芳 , 王晓栋 , 田冰涛 , 沈军

低温物理学报

采用溶胶-凝胶法,以正硅酸乙酯为前驱体,氨水为催化剂,通过六甲基二硅氮烷(HMDS)对溶胶改性,使用提拉法镀膜,并经过低温热处理制备了具有良好防潮抗真空性能的SiO2减反膜.对薄膜的防潮性能、水接触角、真空抗污染能力、结构等进行了测试表征.结果表明:掺HMDS的溶胶制备的二氧化硅膜层峰值透过率为99.7%;水接触角可达154°;在相对湿度大于90%的环境中保存7天和在二甲基硅油作为污染源的真空环境中放置30天,透过率仅分别下降0.05%和0.35%,防潮耐真空稳定性较未改性薄膜都得到极大提高.

关键词: 溶胶-凝胶 , 减反膜 , 光学稳定性

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