郑分刚
,
陈建平
,
李新碗
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2006.00459
用溶胶-凝胶法在镀有氧化铟锡透明导电电极的玻璃基片上沉积钛酸镧铅薄膜, 在相对较低温度580℃退火, 得到了纯钙钛矿结构的透明PLT薄膜, 薄膜厚度从580～1830nm. 随着薄膜厚度的增加, PLT薄膜的晶粒变大、介电常数增大, 而矫顽场减小. 所有样品的透射率都在70%以上, 最大达到90%左右. 当薄膜厚度增加后, 透射率降低, 并且截止波长向长波方向移动. 在633nm处, 1830nm厚的PLT(掺镧8%)薄膜的折射率n和消光系数分别为2.39和0.009.
关键词:
PLT厚膜
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dielectric properties
,
optical properties
,
sol-gel
闻雷
,
孙旭东
,
马伟民
无机材料学报
以Y(NO3)3和NH3·H2O为原料,并在Y(NO3)3溶液中添加少量(NH4)2SO4,采用沉淀法制备出化学组成为Y2(OH)5(NO3)·nH2O的先驱沉淀物.先驱沉淀物在1100℃下煅烧4h,得到了平均粒径为60nm的氧化钇原料粉体.Y2O3粉体与Al2O3、Nd2O3超细粉球磨混合后,采用固相反应工艺,经1700℃真空烧结5h,制备出透明的Nd:YAG陶瓷,同时对Nd:YAG透明陶瓷的光学性能进行了研究.
关键词:
YAG
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transparent ceramics
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solid-state reaction
,
optical properties
黄帅
,
李晨辉
,
孙宜华
,
柯文明
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00064
采用陶瓷靶直流磁控溅射, 以玻璃为基底制备2.5wt% Nb掺杂TiO2薄膜, 控制薄膜厚度在300~350 nm, 研究了不同基底温度下所制得薄膜的结构、形貌和光学特性. XRD分析表明, 基底温度为150℃、250℃和350℃时, 薄膜分别为非晶态、锐钛矿(101)和金红石相(110)结构. 基底温度250℃时, 锐钛矿相薄膜的晶粒尺寸最大, 约为 32 nm. 薄膜表面形貌的SEM分析显示, 薄膜粗糙度和致密度随基底温度升高得到改善. 薄膜的平均可见光透过率在基底温度为250℃以内约为70%, 随基底温度升高至350℃, 平均透过率下降为59%, 金红石相的存在不利于可见光透过. Nb掺杂TiO2薄膜的光学带宽在3.68~3.78 eV之间变化. 基底温度为250℃时, 锐钛矿相薄膜的禁带宽度最大, 为3.78 eV.
关键词:
基底温度
,
TiO2
,
DC magnetron sputtering
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ceramic target
,
structure
,
optical properties
闻雷
,
孙旭东
,
其鲁
,
徐国祥
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2006.00539
以Y(NO3)3溶液和NH3·H2O为原料, 制备了Y2O3纳米粉体. 先驱沉淀物的化学组成为Y2(OH)5NO3·H2O. 研究了pH值及滴加过程对先驱沉淀物形貌及Y2O3产物烧结性的影响. 正向滴定, pH值较低时(pH=7.9), 先驱沉淀物为片状结构; pH值较高时(pH=10.0), 先驱沉淀物片层状结构特性减轻, 并且颗粒变的细小. 反向滴加时, 片层状结构特征消失, 主要为块状晶粒. 先驱沉淀物为片状结构时, 得到的粉体活性较高. 添加适量的(NH4)2SO4能够减轻Y2O3粉体的团聚, 沉淀的同时控制pH值在9以下, 所得到的粉体具有更好的烧结性能. 采用得到的Y2O3纳米粉, 不加入任何烧结助剂, 经1700℃真空烧结4h得到了透明Y2O3陶瓷.
关键词:
Y2O3
,
transparent ceramics
,
optical properties
,
nanopowders
李智
,
苗春雨
,
马春雨
,
张庆瑜
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2011.01281
采用射频磁控溅射技术制备HfLaO薄膜, 利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的微结构, 通过紫外?可见光分光光度计测量了薄膜的透过谱, 计算了薄膜的折射率和禁带宽度, 利用原子力显微镜观察了薄膜的表面形貌. 结果表明: 沉积态HfLaO(La: 25%~37%)薄膜均为非晶态, 随着La掺入量的增加, HfLaO薄膜的结晶化温度逐渐升高, HfLaO(La~37%)薄膜经900℃高温退火后仍为非晶态, 具有优良的热稳定性, AFM形貌分析显示非晶薄膜表面非常平整. 随着 La掺入量的增加, HfLaO薄膜的透射率先降后增, 在可见光范围薄膜均保持较高的透射率(82%以上). HfLaO薄膜的折射率为1.77~1.87. 随着La掺入量的增加, HfLaO薄膜的折射率呈先增后降的变化趋势, 同时HfLaO薄膜的Eg逐渐降低, 分别为5.9eV(La~17%)、5.87eV(La~25%)、5.8eV(La~33%)和5.77eV(La ~37%).
关键词:
HfLaO薄膜
,
magnetron sputtering
,
thermal stability
,
optical properties
吴玉松
,
潘裕柏
,
李江
,
姜本学
,
徐军
,
刘茜
,
郭景坤
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2007.01086
制备了高质量的Yb:YAG透明陶瓷. Yb:YAG透明陶瓷的晶粒尺寸为10μm左右且分布均匀, 晶界处和晶粒中没有杂质、气孔的存在. Yb:YAG样品中所有元素分布均匀, 不同的晶粒间, 晶粒和晶界间成分是一致的, 没有出现成分的偏析. 4mm厚样品的透过率为80％. LD泵浦获得了波长为1030nm, 最大功率为268mW的连续激光输出.
关键词:
透明陶瓷
,
Yb:YAG
,
optical properties
,
laser output
王保柱
,
王晓亮
无机材料学报
doi:10.3724/sp.j.1077.2009.00559
利用射频等离子体辅助分子束外延（RF-MBE）技术在蓝宝石衬底上外延了铝铟镓氮(AlInGaN)四元合金，通过改变Al源的束流生长了不同组分的AlInGaN四元合金，材料生长过程中采用反射式高能电子衍射（RHEED）进行了在位检测. 通过扫描电镜（SEM）、卢瑟福背散射（RBS）、X射线衍射（XRD）和阴极荧光（CL）等测试手段表征了AlInGaN四元合金的结构和光学特性. 研究结果表明：在GaN层上生长AlInGaN外延层时，外延膜呈二维生长；当铝炉的温度为920℃时，外延AlInGaN四元合金外延薄膜中Al/In接近4.7，X射线衍射摇摆曲线的半高宽最小为5arcmin，四元合金的阴极荧光发光峰的半高宽为25nm，AlInGaN四元合金外延层具有较好的晶体质量和光学质量.
关键词:
铝铟镓氮
,
RF-MBE
,
structural properties
,
optical properties
刘明
,
魏玮
,
曲盛薇
,
谷建峰
,
马春雨
,
张庆瑜
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.01096
采用反应射频磁控溅射方法, 在Si(001)基片上制备了具有高$c$轴择优取向的ZnO薄膜. 利用原子力显微镜、X射线衍射、透射光谱和室温光致荧光光谱等分析技术, 研究了氧分压对薄膜的表面形貌和光学特性的影响. 研究结果显示: 0.04～0.23Pa的氧分压范围内, ZnO薄膜存在三个不同的生长模式, 薄膜生长模式转变的临界氧分压分别位于0.04～0.08Pa和0.16～0.19Pa之间; 在0.16Pa以下时, ZnO薄膜的表面岛呈+c取向的竹笋状生长; 当氧分压>0.19Pa时, 薄膜的表面岛以-c取向生长为主; ZnO薄膜的折射率、光学带隙宽度以及PL光谱强度均随着氧分压的增大而增大, 氧分压为0.19Pa时, 薄膜的发光峰最窄, 其半峰宽为88meV.
关键词:
ZnO薄膜
,
reactive radio-frequency magnetron sputtering
,
morphological analysis
,
optical properties
